电子束蒸发镀膜设备在真空条件下利用电子束准确地轰击坩埚内靶材，使靶材融化进而沉积在基片上，在基底上凝结形成薄膜，使用该设备可以镀出高纯度高精度的薄膜，可用来制备金属单质膜，半导体膜，有机膜等。电子束蒸发镀膜设备的优点在于一体化设计，性价比高，性能稳定，可以为待蒸发的物质提供更高的热量，蒸镀的速率也更快；电子束定位准确，可以避免坩埚材料的蒸发和污染。